홈 > 연구실적 > 논문 >
국제 학술지
제목
Post annealing effect on ultra thin Hf-based high-k gate oxide on Si
작성자
idtc
작성일자
2014-08-19
조회수
136
- Post annealing effect on ultra thin Hf-based high-k gate oxide on Si,
CURRENT APPLIED PHYSICS
, 9, pp104~107, (2009)
첨부파일
SCI_16-Current_Applied_Physics_2009_SCIE_IF_1.526.pdf
홈 > 연구실적 > 논문 > 국제 학술지 
